Field guide to optical lithography

Detalles Bibliográficos
Autor principal: Mack, Chris A. (-)
Formato: Libro
Idioma:Inglés
Publicado: Washington. USA. : SPIE Press 2006.
Colección:SPIE field guides ; FG06
Materias:
Ver en Universidad de Navarra:https://innopac.unav.es/record=b24665186*spi
Descripción
Descripción Física:122 p. ; 21 cm
ISBN:9780819462077