Handbook of chemical vapor deposition (CVD) principles, technology and applications
| Autor principal: | |
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| Formato: | Libro |
| Idioma: | Inglés |
| Publicado: |
Norwich, NY :
Noyes
cop. 1999
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| Edición: | 2nd ed |
| Colección: | Materials science and process technology series. Electronic materials and process technology
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| Materias: | |
| Ver en Biblioteca Universitat Ramon Llull: | https://discovery.url.edu/permalink/34CSUC_URL/1im36ta/alma991002827949706719 |
| Descripción Física: | XXIV, 482 p. : il.; 25 cm |
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| Bibliografía: | Referències bibliogràfiques. Índex |
| ISBN: | 9780815514329 |
