Fotoprocesamento ultravioleta de capas finas amorfas de óxido de silicio

Fotoprocesamento ultravioleta de capas finas amorfas de óxido de silicio

Detalles Bibliográficos
Autor principal: García Parada, Eduardo (-)
Autor Corporativo: Universidade de Vigo, editor (editor)
Formato: Tesis
Idioma:Castellano
Publicado: Vigo : Universidade de Vigo 1996
Colección:Tese de doutoramento (Universidade de Vigo)
Materias:
Silicio, Óxido de > Fotoprocesamiento
Ver en Universidad de Navarra:https://innopac.unav.es/record=b13025065*spi

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